特許
J-GLOBAL ID：200903041320998453
連続成形シートへの表面デポジット層形成方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-322175
公開番号（公開出願番号）：特開平8-176833
出願日： 1994年12月26日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：
【要約】【目的】 PTP包装シートへの表面バリア層形成のための真空処理室を小型にし、真空処理室内での所定の真空度への到達を速くし、処理される包装用シートの熱損傷、変形、クラックを無くして、表面バリア層の品質の向上をはかること。【構成】 PCVD法によりPTP包装シートに表面にバリア層が形成される。真空処理室14は二分割されて開閉可能となっており、同処理室14を開放した状態で、巻出しロール16aから同処理室の領域を経て巻取りロール16bに、ポケット成形部2をもつPTC包装シート1が通される。処理室14を閉じると、包装シート1は閉じた処理室の当接縁部18a,18bに挾まれて保持され、その状態で処理室内へ原料と処理ガスが供給されて真空雰囲気でPCVDプロセスが行われる。同様な処理が包装シート1を送りつつ順次行われる。
請求項（抜粋）：
連続成形シートを送り、送りの途中部分で成形シートを真空処理室内に通し、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を真空処理室壁部で気密に保持した状態で、真空処理室内に前記成形シート部分を伸長させ、真空処理室内にデポジット層となる原料および反応ガスを送り込み、真空処理室内に放電を生じさせ、PCVD法により前記成形シート部分の表面にデポジット層を形成し、以上の工程を順次繰返して、前記成形シート部分に続く他の成形シート部分に連続的にデポジット層を形成することを特徴とする連続成形シートへの表面デポジット層成形方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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