特許

J-GLOBAL ID：200903041324652071

位置計測装置

発明者： 岩田 耕一
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 三枝 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-323543
公開番号（公開出願番号）：特開2001-141413
出願日： 1999年11月15日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 平行移動及び回転を含む被測定物の移動位置をコンパクトな仕組みで測定し得る位置測定装置を提供する。【解決手段】 光源部1からの照射光路中に置かれたビームスプリッタ2による一方の分岐光路上に配置された被測定物Tに設置された複数の逆反射体3と、他方の分岐光路上に配置された参照光用反射体4と、両反射体による反射光をビームスプリッタ2を経て受光する干渉計測部5とを備え、光源部1の照射光束幅及び複数の逆反射体の配置は、被測定物の測定すべき移動範囲において、複数の逆反射体中の少なくともいずれか2個の逆反射体がビームスプリッタを経た照射光を該ビームスプリッタに向けて反射するように決められていることを特徴とする位置計測装置。

請求項（抜粋）：

被測定物に対して異なる方向からコヒーレントな平行光の照射を行なう少なくとも2個の光源部と、各光源部からの光線の光路中に置かれた被測定物に対し固定した位置に設定された複数の逆反射体と、該逆反射体により反射された光線と干渉する参照光を生成する参照光生成部と、前記逆反射体により反射された光線と前記参照光とが干渉するように受光する干渉計測部とを備えており、前記各光源部からの光線の幅及び前記逆反射体の配置は、被測定物の測定すべき移動範囲において、前記複数の逆反射体中の少なくともいずれか2個の逆反射体での反射光が前記参照光と干渉するように決められていることを特徴とする位置計測装置。

IPC (2件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00

FI (2件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00 G

Fターム (30件)：

2F064AA03 ,  2F064AA06 ,  2F064BB01 ,  2F064FF02 ,  2F064GG16 ,  2F064GG22 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ11 ,  2F065AA01 ,  2F065AA02 ,  2F065AA35 ,  2F065AA37 ,  2F065AA39 ,  2F065CC00 ,  2F065DD02 ,  2F065FF52 ,  2F065GG05 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL17 ,  2F065LL18 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ51 ,  2F065TT02