特許
J-GLOBAL ID：200903041332644681
照度むら検出用パターンを有するマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
煤孫 耕郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-139893
公開番号（公開出願番号）：特開平8-314118
出願日： 1995年05月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 スキャン露光中に突発的に発生する照度むらを観測し、製品の良品率を向上させる。【構成】 パターンの形成されたマスクと感光性基板を走査することにより、スリット状の照明領域よりも広い面積のマスク上のパターンを感光基板上に露光する場合に用いるマスクで、スキャン露光用マスク(1)のスキャン方向に沿って10μm幅の照度むら検出用パターン領域(3)が設けられている。この照度むら検出用パターン領域(3)は主パターンの配置を妨げないようにマスクの端部に位置している。
請求項（抜粋）：
パターンの形成されたマスクと感光性基板を走査することにより、照明領域よりも広い面積の前記マスク上のパターンを前記感光基板上に露光する方法に用いるマスクであって、走査方向に沿った主パターン外の上端或いは下端に照度むら検査用のパターンを有することを特徴とする照度むら検出用パターンを有するマスク。
IPC (2件)：
FI (5件)：
G03F 1/08 P
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 529
