特許

J-GLOBAL ID：200903041355684494

光学素子の製造方法

発明者： 二宮 正伸 ,  明石 量磁郎
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 渡部 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-072949
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261139
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 表示特性や調光特性等の光学特性や、記録/消去の再現性、表示の均一性を大幅に高めた、少なくとも高分子液晶からなる光散乱性組成物を用いた光学素子の製造方法を提供する。【構成】 高分子液晶組成物を熱処理することによって、マルチドメイン構造を制御し、該マルチドメイン構造を保持した状態で該組成物を架橋させて、光学素子を製造する。その際、熱処理は高分子液晶組成物が液晶相を示す温度で行うのが好ましく、架橋は高分子液晶組成物の液晶相-等方相相転移温度以下の温度で架橋を行うのが好ましい。また、得られる光学素子において、マルチドメイン構造におけるドメイン分布数の極大におけるドメイン径は、3μm以下、特に200nm〜1500nmであるのが好ましい。

請求項（抜粋）：

高分子液晶組成物を熱処理することによって、マルチドメイン構造を制御し、該マルチドメイン構造を保持した状態で該組成物を架橋させることを特徴とする光学素子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-272058   出願人：住友電気工業株式会社
• 可逆性表示媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-305893   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 液晶複合膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-058743   出願人：住友電気工業株式会社