特許

J-GLOBAL ID：200903041376615310

電子線描画装置

発明者： 吉沢 規次
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-228693
公開番号（公開出願番号）：特開平8-069956
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 高スループットでウエハ上にパターンを描画できる電子線描画装置を提供する。【構成】 電子銃11から照射された電子線Bの経路上に、電子線Bの一部を通過させる複数の開口部121,122が形成されたマスク12を設ける。さらに、開口部121,122を通過した各電子線B1 ,B2 の経路に沿って、偏向電極及び縮小レンズ131,132をそれぞれ配置する。これによって、マスク12に照射された電子線Bは各開口部121,122を通過する複数の電子線B1,B2 に分離される。そして、電子線はそれぞれ個別に縮小及び偏向される。

請求項（抜粋）：

電子線を照射する電子銃と、前記電子線の経路に設けられるもので、当該電子線の一部を通過させる複数の開口部が形成されたマスクと、前記マスクの各開口部を通過した前記各電子線の経路に沿ってそれぞれ配置される偏向電極及び縮小レンズとを備えたことを特徴とする電子線描画装置。

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭60-106130
  
• 特開昭62-252935
  
• 特開昭62-147725
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭60-106130