特許
J-GLOBAL ID：200903041379714157
レジストパターンの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-236890
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083073
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 ポジ型、ネガ型のレジストからそれぞれの反転した画像を形成する。【構成】 基板上に塗布したレジストを電離放射線によってパターンの露光後に、露光によって発生したレジスト中の酸を、常圧あるいは減圧下でのアルカリ性雰囲気中への暴露、アルカリ性溶液への浸漬、もしくはアルカリ性溶液の塗布によって中和処理の後に、電離放射線によって全面露光した後に現像することによって反転したレジストパターンを形成する。【効果】 ポジ型、ネガ型のいずれかのレジストからポジ、ネガの任意のパターンの形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
化学増幅系レジストを使用したパターンの形成方法において、電離放射線によるパターンの露光後に、露光によって発生したレジスト中の酸をアルカリによって中和処理の後に、電離放射線によって全面露光し、次いで現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/38 512
, G03F 7/004 515
, H01L 21/027
