特許

J-GLOBAL ID：200903041402319775

第3級ヒドロカルビルシリル化合物の製造方法

発明者： ジョン パトリック キャナディ ,  ビン サン ニュエン
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-163649
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044581
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】 有用な立体障害のある有機ケイ素中間体の製造方法を提供すること。【解決手段】 有効量の銅化合物触媒の存在下でジエチレングリコールジブチルエーテル及び式:RMgXにより表されるグリニャール試薬を含む混合物と式:R1 a SiX4-a (式中Rは炭素数4〜20の第3級ヒドロカルビル基であり、各R1 は炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基から独立に選ばれ、各Xはハロゲン原子から独立に選ばれ、aは0〜3の整数である)により表されるケイ素化合物とを接触させることを含んでなる第3級ヒドロカルビルシリル化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

有効量の銅化合物触媒の存在下でジエチレングリコールジブチルエーテル及び式:RMgXにより表されるグリニャール試薬を含む混合物と式:R1 a SiX4-a (式中Rは炭素数4〜20の第3級ヒドロカルビル基であり、各R1 は炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基から独立に選ばれ、各Xはハロゲン原子から独立に選ばれ、aは0〜3の整数である)により表されるケイ素化合物とを接触させることを含んでなる第3級ヒドロカルビルシリル化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07F 7/12 ,  B01J 23/72 ,  B01J 27/122 ,  B01J 31/04 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07F 7/12 J ,  B01J 23/72 Z ,  B01J 27/122 Z ,  B01J 31/04 Z ,  C07B 61/00 300