連続真空蒸着装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：堀田実 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003800
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212424
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：

【要約】【目的】真空チャンバー内の各部分の磁界の強さの違いの影響が少なく、電子銃出力の効率向上及び蒸発速度の向上によりランニングコストの低減、生産性のアップが可能な連続真空蒸着装置を提供する。【構成】真空中で電子銃3によりルツボ6から蒸発材料5を蒸発させ、連続的に供給される帯状基板9の表面に蒸着膜を形成させる連続真空蒸着装置において、ルツボは各々独立した複数の分割ルツボ10からなり、分割ルツボは各々独立に上下方向に高さ調整でき、かつ帯状基板の移動方向に水平移動できるように構成されている。

請求項（抜粋）：

真空中で電子銃によりルツボから蒸発材料を蒸発させ、連続的に供給される帯状基板の表面に蒸着膜を形成させる連続真空蒸着装置において、前記ルツボは各々独立した複数の分割ルツボからなり、該分割ルツボは各々独立に上下方向に高さ調整でき、かつ帯状基板の移動方向に水平移動できるように構成されている、ことを特徴とする連続真空蒸着装置。

引用特許：

審査官引用 (11件)

特公平4-019300
特公平4-019300
特開平3-202779

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