特許
J-GLOBAL ID：200903041419584499
反応性ケイ素系高分子、及びそれを用いた硬化性組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139759
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298941
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【構成】 1分子中に少なくとも2つ以上のSiH結合を有するケイ素化合物((A)成分)、及び1分子中に少なくとも2つ以上のアルケニル基を有するケイ素化合物((B)成分)のヒドロシリル化反応によって合成されるケイ素系高分子で、分子量が1000〜100000の範囲にあり、各分子末端に(B)成分に由来するアルケニル基を有することを特徴とする反応性ケイ素系高分子、及び該反応性ケイ素系高分子((C)成分)、1分子中に少なくとも2つ以上のSiH結合を有するケイ素化合物((D)成分)、及びヒドロシリル化触媒((E)成分)を必須成分としてなる硬化性組成物。【効果】 耐熱性に優れたケイ素系硬化物を提供することができる。
請求項（抜粋）：
1分子中に少なくとも2つ以上のSiH結合を有するケイ素化合物((A)成分)、及び1分子中に少なくとも2つ以上のアルケニル基を有するケイ素化合物((B)成分)のヒドロシリル化反応によって合成されるケイ素系高分子で、分子量が1000〜100000の範囲にあり、各分子末端に(B)成分に由来するアルケニル基を有することを特徴とする反応性ケイ素系高分子。
引用特許：
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