特許

J-GLOBAL ID：200903041449747147

フォトマスク製造のための配置および方法

発明者： トーマス エンゲル ,  ヴォルフガング ハーニッシュ ,  ピーター ホッフロッジェ ,  アクセル ジボルド
出願人/特許権者： カール ツアイス エスエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  カール ツアイス エヌティエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 松田 省躬
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-518755
公開番号（公開出願番号）：特表2005-532581
出願日： 2003年07月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】、フォトマスク製造のための配置および方法 【解決手段】少なくとも1つの欠陥検査システムが、常設データ回線またはオンライン回線を通じて少なくとも1つの修正システムRSと結合している、およびその欠陥検査システムと修正システムが、一方のシステムで得られた結果が加工続行のためにもう一方のシステムに直接提供されるようにデータに関して相互結合している、その場合欠陥検査システムが解明した欠陥を、データ交換の目的でデータ回線を通じて修正システムに転送し、該修正システムが解明された欠陥を手掛かりに修正過程を制御する、ただし、好ましくもAIMSシステムが欠陥検査システムとして、および電子ビームシステムが欠陥検査用に配備されている

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの欠陥検査システムが、常設データ回線またはオンライン回線を通じて少なくとも1つの修正システムと結合している、フォトマスク製造のための配置。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F1/08 S ,  G03F1/08 T ,  H01L21/30 502P

Fターム (5件)：

2H095BD04 ,  2H095BD14 ,  2H095BD24 ,  2H095BD36 ,  2H095BD40

引用特許：

出願人引用 (2件)

• US 5148024
  
• US 5055696