特許
J-GLOBAL ID:200903041454697212
超音波霧化装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-394652
公開番号(公開出願番号):特開2005-152779
出願日: 2003年11月25日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
【課題】静電霧化装置に比べて低コスト化が可能で且つナノメータサイズの液滴を生成可能な超音波霧化装置を提供する。 【解決手段】対象液体Aを所定空間へ供給する液体供給手段1と、液体供給手段1により所定空間へ供給された対象液体Aへ超音波を作用させる超音波発生手段たる超音波発生素子2とを備えている。超音波発生素子2は、シリコン基板からなる基板21と、基板21の厚み方向の一表面側に形成され基板21に比べて熱伝導率が十分に小さな多孔質シリコン層からなる断熱層22と、断熱層22上に形成され断熱層22よりも熱伝導率および導電率それぞれが大きな金属薄膜からなる発熱体23とを備えて発熱体23への交流電流の通電に伴う発熱体23と媒体との熱交換により超音波を発生する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
超音波を発生する超音波発生素子を備え超音波発生手段から発生する超音波を利用して対象液体を霧化する超音波霧化装置であって、超音波発生手段が、基板と、基板の厚み方向の一表面側に形成された多孔質半導体層からなる断熱層と、断熱層上に形成され断熱層よりも熱伝導率および導電率それぞれが大きな発熱体とを備えて発熱体への交流電流の通電に伴う発熱体と媒体との熱交換により超音波を発生する超音波発生素子であることを特徴とする超音波霧化装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4D074BB03
, 4D074DD09
, 4D074DD23
, 4D074DD32
, 4D074DD37
, 4D074DD42
, 4D074DD65
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
空気清浄機
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-280090
出願人:松下電工株式会社
-
実用新案登録第2553592号公報(第3頁右欄第21行〜第46行、図1参照)
審査官引用 (2件)
-
圧力波発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-113369
出願人:科学技術振興事業団
-
特公昭49-024928
前のページに戻る