特許
J-GLOBAL ID:200903041471995138

水素透過膜及びその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加茂 裕邦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-103695
公開番号(公開出願番号):特開平11-286785
出願日: 1998年03月31日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【課題】多孔質支持体に対してピンホールのない緻密なPd合金膜を形成してなる水素透過膜を得る。【解決手段】多孔質支持体の表面にPd合金膜を有する水素透過膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面に対して無電解メッキ法又はイオンプレーティング法によりPd金属と該Pdと合金化する金属とをその最上層がPd層となるように交互に多層化層とした後、熱処理して形成されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過膜及びその作製方法。
請求項(抜粋):
多孔質支持体の表面にPd合金膜を有する水素透過膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面に対して無電解メッキ法によりPd金属と該Pdと合金化する金属とをその最上層がPd層となるように交互に多層化層とした後、熱処理して形成されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過膜。
IPC (5件):
C23C 18/44 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 ,  C23C 14/14 ,  C23C 18/52
FI (5件):
C23C 18/44 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 Z ,  C23C 14/14 G ,  C23C 18/52 B

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