特許
J-GLOBAL ID：200903041474354311
レジスト膜塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079731
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283328
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】レジスト膜塗布前に行なわれる溶剤蒸気処理を行なうチャンバ内の蒸気濃度をモニタすることにより、レジスト膜の密着性低下を防止する。【構成】チャンバ3内のガスの一部を配管5b,5cにより取出してガス検知器7に導入し、チャンバ3内の溶剤蒸気の濃度を検出し、濃度異常時にアラームを出す。
請求項（抜粋）：
チャンバ内に半導体ウェーハを装着し、前記チャンバ内に導入した溶剤蒸気により前記半導体ウェーハの表面を処理するレジスト膜塗布装置において、前記チャンバ内のガスの一部を取出して前記溶剤蒸気の濃度を検出するガス検知器を備えたことを特徴とするレジスト膜塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 501
