特許
J-GLOBAL ID:200903041485667788

微粒子薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-216663
公開番号(公開出願番号):特開平7-116502
出願日: 1993年08月31日
公開日(公表日): 1995年05月09日
要約:
【要約】【構成】 固体または液体の基板を、微粒子の分散懸濁液と接触させ、雰囲気の空気またはガス、基板および懸濁液の3相接触線にあるメニスカス先端部を掃引展開して移動させ、微粒子の集積により微粒子膜を製造するにあたり、メニスカス先端部の移動速度(Vc)、微粒子の体積分率、および液体蒸発速度(je)をパラメーターとして微粒子薄膜の微粒子密度および微粒子層数を制御する。【効果】 大面積の安定なぬれ膜の作成方法、微粒子薄膜の層数制御、および、微粒子の補給法が確立し、緻密な微粒子薄膜が大量連続的に生産することが可能となる。
請求項(抜粋):
固体または液体の基板を、微粒子の分散懸濁液と接触させ、雰囲気の空気またはガス、基板および懸濁液の3相接触線にあるメニスカス先端部を掃引展開して移動させ、微粒子の集積により微粒子膜を製造するにあたり、メニスカス先端部の移動速度、微粒子の体積分率、および液体蒸発速度をパラメーターとして微粒子薄膜の微粒子密度および微粒子層数を制御することを特徴とする微粒子薄膜の製造方法。

前のページに戻る