特許
J-GLOBAL ID：200903041512452764
液晶素子の製造方法、表示媒体、表示素子およびその製造方法、表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-273572
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102496
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 ?@透過率が向上した、表示の良好な液晶素子の製造方法を提供する。?A光散乱効率を向上させた表示媒体を提供する。?Bマトリックスの強度が十分あり、光透過率の良好な、コントラストのよい、しきい値電圧の低い表示素子、その製造方法、その表示素子を用いた表示装置を提供する。【構成】 ?@連続気孔を有する多孔質材料に低分子液晶化合物を含浸させてなる液晶素子の製造方法において、低分子液晶化合物を大気圧より加圧させて多孔質材料の孔の末梢まで含浸させる液晶素子の製造方法。?A記録層として高分子分散型液晶を有する表示媒体において、記録層を形成するフィルム状多孔質材料の孔の形状が棒状であり、孔の長軸方向が基板面と平行である表示媒体。?B高分子化合物と液体もしくは固体を分散混合し、該液体もしくは固体を抽出することにより形成された連続気孔を有する多孔質フィルムへ液晶を含浸してなる表示層を、少なくとも一方に透明電極を有する一対の基板間に挟持してなる表示素子、その製造方法及びその表示素子を用いた表示装置。
請求項（抜粋）：
連続気孔を有する多孔質材料に低分子液晶化合物を含浸させてなる液晶素子の製造方法において、低分子液晶化合物を大気圧より加圧させて含浸させることを特徴とする液晶素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/1333
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1341
, G02F 1/135
