特許

J-GLOBAL ID：200903041515800313

NF3ガスの処理剤

発明者： 木山 洋実 ,  大森 宣典 ,  森 京博 ,  濱口 徹也
出願人/特許権者： 大同ほくさん株式会社
代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-155948
公開番号（公開出願番号）：特開平9-000877
出願日： 1995年06月22日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】空気成分を含んでいても異常昇温やNOx 等の発生がなく安全に除害することができ、しかも、工程を簡略化できて処理装置の小形化も実現できるNF3 ガスの処理剤を提供する。【構成】粒状もしくは粉状に形成されたソーダライムからなり、加熱状態でNF3 ガスもしくはNF3 ガスを含むガスと接触することにより、上記NF3 ガスを分解しその分解生成物を吸着するようにしている。

請求項（抜粋）：

粒状もしくは粉状に形成されたソーダライムからなり、加熱状態でNF3 ガスもしくはNF3 ガスを含むガスと接触することにより、上記NF3 ガスを分解しその分解生成物を吸着することを特徴とするNF3 ガスの処理剤。

IPC (3件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/54

FI (3件)：

B01D 53/34 134 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 128