特許

J-GLOBAL ID：200903041515838442

基板処理装置

発明者： 須田 敦彦 ,  豊田 一行 ,  巻口 一誠 ,  竹下 光徳 ,  田中 勉 ,  鈴木 貞之 ,  野村 慎一
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223022
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050802
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】高い基板処理効率が得られ、スループットの優れた基板処理装置を提供する。【解決手段】カセットローダ室10にカセット搬送兼ウェーハ搬送ロボット20を設け、その室壁12に連結モジュール300を取り外し可能に取り付ける。連結モジュール300を互いに離間して鉛直方向に積み重ねる。各連結モジュール300では、外ゲートバルブ62、ロードロック室52、ゲートバルブ64、搬送室54、ゲートバルブ66及び反応処理室56をカセットローダ室10からこの順に連結配置する。ロードロック室52内のウェーハボート70の構造を反応処理室56内で同時に処理されるウェーハ5の枚数の2倍以上の枚数を保持可能なものとする。搬送室54内にウェーハ搬送ロボット80を設ける。

請求項（抜粋）：

基板搬送部と、前記基板搬送部に取り付けられた複数のモジュールと、前記基板搬送部内に設けられた第1の基板搬送手段であって、基板を前記複数のモジュールに搬送可能な第1の基板搬送手段と、を備える基板処理装置であって、前記複数のモジュールのそれぞれが、前記基板を処理する気密構造の基板処理室と、前記基板処理室と前記基板搬送部との間に設けられた気密構造の中間室と、前記基板処理室と前記中間室との間に設けられた第1のバルブであって閉じた場合には前記基板処理室と前記中間室との間を気密にすることができ、開いた場合には前記基板がその内部を通って移動可能な第1のバルブと、前記中間室と前記基板搬送部との間に設けられた第2のバルブであって閉じた場合には前記中間室と前記基板搬送部との間を気密にすることができ、開いた場合には前記基板がその内部を通って移動可能な第2のバルブとを備え、前記中間室には前記基板を保持可能な基板保持手段が設けられ、前記基板保持手段が前記基板処理室のそれぞれにおいて一度に処理される前記基板の枚数の少なくとも2倍以上の枚数の基板を保持可能であり、前記中間室または前記基板処理室には、前記基板を前記基板保持手段と前記基板処理室との間で搬送可能な第2の基板搬送手段が設けられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 1/00 535 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 1/00 535 ,  H01L 21/02 Z