特許
J-GLOBAL ID:200903041525658876

薄膜ブリッジ型起爆体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-512827
公開番号(公開出願番号):特表2000-500856
出願日: 1997年09月03日
公開日(公表日): 2000年01月25日
要約:
【要約】爆薬を起爆するための薄膜ブリッジ型起爆体は、ニクロム又は窒化タンタルから選択された組成を有する薄膜抵抗素子を備えており、上記ニクロム又は窒化タンタルは、アルミナ基板の上に蒸着(ニクロムの場合)又はスパッタリング(窒化タンタルの場合)される。起爆薬混合物が、積極的に保持する接触器アセンブリによって、薄膜起爆素子に接した状態で収容されている。
請求項(抜粋):
プリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体の中の火工物質に接した状態で付与される、エネルギ消費量が少なく高速で機能する薄膜ブリッジ型起爆回路であって、 (a) 約0.635mm(0.025インチ)の公称厚さを有するセラミック製すなわちアルミナ製の基板(2)と、 (b) 該基板に積層された薄膜ブリッジとを備えており、 該薄膜ブリッジは、 (b1)予め選択された交互の金属系組成から成り、他の金属層に橋絡されている、1乃至2ミクロンの厚さの抵抗層(1)と、 (b2)0.015ミクロン(0.6マイクロインチ)乃至約5.08ミクロン(200マイクロインチ)の厚さまで前記抵抗層(1)の上に熱的に蒸着された第1の膜すなわち金の種層(3)と、 (b3)対向する前記第1の膜の上に電気メッキされた、金、白金又はアルミニウムの如き金属から成る厚い第2の膜とを有しており、 当該薄膜ブリッジ型起爆回路は、更に、 (c) 導電体(10)によって前記抵抗層(1)に接続された電源手段を備えていることを特徴とする薄膜ブリッジ型起爆回路。
IPC (3件):
F42B 3/12 ,  B60R 21/26 ,  B60R 22/46
FI (3件):
F42B 3/12 ,  B60R 21/26 ,  B60R 22/46

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