特許

J-GLOBAL ID：200903041531180732

回転処理装置

発明者： 滝沢 芳治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-100426
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307322
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【目的】本発明は、基板を搭載するテーブルと、そのテーブルを回転させる回転軸と、回転により基板より飛散する液体と回転により発生する気流を受ける容器とからなる回転処理装置において、その目的は、液体を気流を受けるカップ容器底面の水滴溜をなくし、その上部の気流を抑制し、基板裏面への水滴の再付着を防止出来る回転処理装置を提供することにある。【構成】処理容器の底面を構成する底板を、外側底板と内側底板に分離し、その外側底板と内側外板により構成される開口部の下方に排水排気溝を設け、その排水排気溝から液体の排水と気流の排気を行う構造とした。【効果】基板裏面への水滴の再付着を防止出来るため、その水滴付着に由来する製造工程上の不良を低減することが出来る。

請求項（抜粋）：

基板を搭載するテーブルと、そのテーブルを回転させる回転軸と、回転により基板より飛散する液体と回転により発生する気流を受ける容器とからなる回転処理装置において、容器底面を構成する底板が内側底板と外側底板に分離されている事を特徴とする回転処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361 ,  F26B 11/04 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027