特許
J-GLOBAL ID：200903041561766340
透明パネルの両面に透明膜パターンを形成する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-008496
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198472
出願日： 1992年01月21日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】 ガラス等の透明パネル3における表面側と裏面側との両方に、透明電極膜又は透明配線膜等の透明膜パターン4,16を、互いに正確に位置合わせして形成することが、きわめて簡単な工程で、低コストにてできるようにする。【構成】 透明パネル3の表裏両面に、透明な薄膜11,12を形成し、次いで、前記両透明薄膜11,12の各々にフォトレジスト膜13,14を形成したのち、前記両フォトレジスト膜13,14のうち一方のフォトレジスト膜13に対してマスク15を重ねて露光し、次に、前記両フォトレジスト膜13,14に現像処理を施したのち、全体にエッチッグ処理を施す。
請求項（抜粋）：
ガラス等の透明パネルの表裏両面に、透明な薄膜を形成し、次いで、前記両透明薄膜の表面の各々に、フォトレジスト膜を形成したのち、前記両フォトレジスト膜のうち一方のフォトレジスト膜に対してマスクを重ねて、該マスクを通して露光し、次に、前記両フォトレジスト膜の両方に対して現像処理を施したのち、全体にエッチッグ処理を施すことを特徴とする透明パネルの両面に透明膜パターンを形成する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G02F 1/1333 500
