特許

J-GLOBAL ID：200903041570600722

分子内ビス(フェニルカルバゾール)基を有するシリコン系化合物及びこれを利用した有機発光素子の有機薄膜層形成方法

発明者： パク,チャン-ソク ,  リー,チョン-チャン ,  カン,サン-ウク ,  ハン,ウォン-シク
出願人/特許権者： 東進セミケム株式会社
代理人 (2件)： 大家 邦久 ,  林 篤史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-510878
公開番号（公開出願番号）：特表2009-537510
出願日： 2007年04月27日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：

本発明は分子内ビス(フェニルカルバゾール)基を有するシリコン系化合物及びこれを利用した有機発光素子の有機薄膜層形成方法に関するものであって、特に本発明の化合物は、青色発光特性及びホール伝達特性に優れ、同時に青色発光材料として使用したり赤色、緑色、青色、白色などのような多様な燐光または蛍光ドーパントに対してホストとして使用できるだけでなく、電気化学的蒸着方法を通して有機発光素子への適用が可能であり、高効率発光が可能で、低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる分子内ビス(フェニルカルバゾール)基を有するシリコン系化合物及びこれを利用した有機発光素子の有機薄膜層形成方法に関するものである。

請求項（抜粋）：

下記式(1)または(2)

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C09K 11/06 ,  H01L 51/50

FI (5件)：

C07F7/08 R ,  C09K11/06 660 ,  H05B33/14 B ,  H05B33/22 B ,  H05B33/22 D

Fターム (19件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC02 ,  3K107CC04 ,  3K107CC12 ,  3K107CC21 ,  3K107DD59 ,  3K107DD68 ,  3K107DD71 ,  3K107DD74 ,  3K107DD78 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ60 ,  4H049VR24 ,  4H049VS12 ,  4H049VT03 ,  4H049VU25 ,  4H049VW39