特許

J-GLOBAL ID：200903041575710755

光源装置

発明者： 奥脇 浩之
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334884
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154773
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 半導体レーザをベースに固定するばあい、ビームピッチ方向の距離を正確に保って固定することができる光源装置を提供する。【解決手段】 複数の半導体レーザ2,2と、これらの半導体レーザを圧入固定する嵌合孔1a,1aを備えたベース1と、該ベースに固定され各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズ3,3と、上記コリメータレンズから出射されるレーザビーム10,10を近接したビームにするビーム合成用光学素子5と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに取り付けられるケース9とを有する光源装置において、上記ベースの1嵌合孔1aの裏面に半導体レーザを保持する円筒状のリブ1eを形成し、各リブのビームピッチ方向中心線Y上に割り溝1fを穿設した。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザと、これらの半導体レーザを圧入固定する嵌合孔を備えたベースと、該ベースに固定され各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズと、上記コリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに取り付けられるケースとを有する光源装置において、上記ベースの嵌合孔の裏面に半導体レーザを保持する円筒状のリブを形成し、各リブのビームピッチ方向中心線上に割り溝を穿設したことを特徴とする光源装置。

IPC (3件)：

H01S 3/18 ,  B41J 2/44 ,  G02B 7/00

FI (3件)：

H01S 3/18 ,  G02B 7/00 ,  B41J 3/00 D