特許

J-GLOBAL ID：200903041584561258

低濃度校正用ガス混合物の発生装置

発明者： ロバート ゴードン リッジウェイ ,  リチャード ビンセント パース ,  ピーター ジェームス マロリス ,  セクサン デーンダヌー ,  サハス ナラヤン ケッカー
出願人/特許権者： エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-247313
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104130
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 高濃度の分析物を含有するガスを動的希釈して、分析検知器を校正するためと種々の用具や機器類からの放出物の分析のために低濃度分析物含有ガスを製造する装置を提供する。【解決手段】 残留ガス又は腐食性ガスをパージする導管218、248を備えたパージされたエンクロージャ212内において、一連の供給源ガスを含有する容器256、274、298と、希釈剤導管246、268、292と、質量流量調節器260、284、300により制御される並列のガス又は化学物質導管262、285、302とを使用する。

請求項（抜粋）：

高純度ガスの分析及び化学物質の放出監視機器のために低濃度の校正用ガス混合物を発生させるための装置であって、a)第一の質量流量調節器により制御される第一の出口導管を備えた高濃度の非腐食性ガスを収容するための第一の容器、b)第二の質量流量調節器により制御される第二の出口導管を備えた高濃度の腐食性ガスを収容するための第二の容器、c)第三の質量流量調節器により制御される第三の出口導管を備えた高濃度の低揮発性化学物質又はガスを収容するための第三の容器、d)高純度の希釈剤ガスの供給源、e)上記高濃度の非腐食性ガス、上記高濃度の腐食性ガスあるいは上記高濃度の低揮発性化学物質又はガスを希釈して低濃度の校正用ガス混合物を製造するため上記高純度の希釈剤ガスの供給源を質量流量調節器を通して上記第一、第二及び第三の出口導管のおのおのと連絡させるための第一の希釈剤導管、f)上記第一の出口導管を当該第一の出口導管の排気手段を通してパージするため上記高純度の希釈剤ガスの供給源を当該第一の出口導管と連絡させるための第二の希釈剤導管、g)上記第二の出口導管を当該第二の出口導管の排気手段を通してパージするため上記高純度の希釈剤ガスの供給源を当該第二の出口導管と連絡させるための第三の希釈剤導管、h)上記高濃度の低揮発性ガスを同伴するためあるいは上記第三の出口導管を当該第三の出口導管の排気手段を通してパージするため上記高純度の希釈剤ガスの供給源を上記第三の容器と連絡させるための第四の希釈剤導管、i)上記低濃度の校正用ガスの圧力を制御するための手段、j)上記第一の容器、上記第一の出口導管及び上記第一の質量流量調節器、上記第二の容器、上記第二の出口導管及び上記第二の質量流量調節器、そして上記第三の容器、上記第三の出口導管及び上記第三の質量流量調節器を収容する気密エンクロージャ、並びにk)上記エンクロージャへパージガスを導入するための手段と当該エンクロージャから当該パージガスを排気するための手段、を含む低濃度校正用ガス混合物の発生装置。

IPC (2件)：

G01N 1/00 102 ,  G01N 30/04

FI (2件)：

G01N 1/00 102 D ,  G01N 30/04 P