特許

J-GLOBAL ID：200903041595966136

連続パターンの欠陥修正方法および欠陥修正装置

発明者： 山中 昭浩
出願人/特許権者： エヌティエヌ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118027
公開番号（公開出願番号）：特開平9-307217
出願日： 1996年05月13日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 複雑な光学系を不要にし、パターン形状誤差が欠陥検出分解能に影響することがないような連続パターンの欠陥修正方法および欠陥修正装置を提供する。【解決手段】 レーザ照射機構5に含まれるCCDカメラ511によって検査エア内における連続パターンの画像を取込み、2値化して記憶し、輪郭線抽出を行ない、各輪郭線におけるX方向またはY方向の最小値と最大値を計算し、各輪郭線におけるX方向またはY方向の最小値が検査エリアの枠に接しているか否かを判別し、接していなければ欠陥であると判別し、その欠陥がオープン欠陥であればインク塗布機構9によりインクを塗布し、ショート欠陥であればレーザ照射機構5によりレーザカットする。

請求項（抜粋）：

連続パターンの欠陥修正方法であって、前記連続パターンのそれぞれの検査エリア内の輪郭線を抽出し、該輪郭線のX方向あるいはY方向のいずれかの最大値および最小値を求め、それぞれが前記検査エリアの枠に接しているか否かに応じて、前記連続パターンの欠陥部分を認識する第1のステップ、および前記認識された欠陥部分が欠如部分であればその部分に針先端に付着したインクまたは導電性ペーストを接触させて塗布する第2のステップを含む、連続パターンの欠陥修正方法。

IPC (7件)：

H05K 3/22 ,  G01M 11/00 ,  G01N 21/88 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/66 ,  H05K 3/08

FI (8件)：

H05K 3/22 A ,  H05K 3/22 E ,  G01M 11/00 T ,  G01N 21/88 D ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/66 J ,  H05K 3/08 D