感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜およびこれを用いたバンプ形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-057022
公開番号（公開出願番号）：特開2000-250210
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】電子部品の回路基板製造などのフォトファブリケーションに好適な厚膜用ポジ型感光性樹脂組成物と感光性樹脂膜、およびこれを用いたバンプ形成方法を提供すること。【解決手段】重量平均分子量2,000〜0,000のノボラック樹脂/ポリビニル低級アルキルエーテル/分子量200〜1,000の多核フェノール化合物/ナフトキノンジアジド基含有化合物/溶剤を含有する感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)重量平均分子量2,000〜30,000のノボラック樹脂、(B)ポリビニル低級アルキルエーテル、(C)分子量200〜1,000の多核フェノール化合物および(D)ナフトキノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/023 511 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , H05K 3/06

FI (6件)：

G03F 7/023 511 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 , G03F 7/033 , H05K 3/06 H , H01L 21/30 502 R

Fターム (20件)：

2H025AA00 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025BE01 , 2H025CB06 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA43 , 5E339CC01 , 5E339CD01 , 5E339CE11 , 5E339CE12 , 5E339CE19 , 5E339CF16 , 5E339CF17 , 5E339DD02

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭46-016049
特開昭61-006648

審査官引用 (2件)

特開昭46-016049
特開昭61-006648

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