特許

J-GLOBAL ID：200903041623321820

表面処理方法

発明者： 逢坂 勉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-131160
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329700
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 被処理表面にダメージを与えることなく、当該被処理表面に付着した異物を除去する表面処理方法を提供する。【解決手段】 被処理表面101aに付着した異物Aを覆う状態で被処理表面101aに被着物105を形成し、レーザ光107の照射による加熱によって被着物105を気相化させ、この被着物105とともに異物Aを被処理表面101a上から除去する表面処理方法において、被着物105は、常温常圧で気体状態の物質を液体状または固体状として被処理表面101a上に形成してなることを特徴としている。被処理表面101aに被着物105を形成する際には、被処理表面101aを冷却しておく。

請求項（抜粋）：

被処理表面に付着した異物を覆う状態で当該被処理表面に被着物を形成し、光照射による加熱によって当該被着物を気相化させ、当該被着物とともに前記異物を前記被処理表面上から除去する表面処理方法において、前記被着物は、常温常圧で気相状態の物質を液相状態または固相状態として前記被処理表面に形成してなることを特徴とする表面処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 645 ,  B08B 7/00

FI (2件)：

H01L 21/304 645 D ,  B08B 7/00

Fターム (4件)：

3B116AA03 ,  3B116BB82 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11