特許
J-GLOBAL ID:200903041640847739

耐溶剤性微孔質ポリベンゾイミダゾール薄膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-078674
公開番号(公開出願番号):特開2000-325765
出願日: 2000年03月21日
公開日(公表日): 2000年11月28日
要約:
【要約】耐溶剤性ポリベンゾイミダゾール薄膜、それらを製造してそれらを架橋する方法及びそれらからの複合薄膜及び中空繊維状薄膜モジュールを開示する。
請求項(抜粋):
次の特性:(i) 表面孔径が1ミクロン未満であり;(ii) 少なくとも5m3/m2・hr・atmの窒素透過率と;(iii) 少なくとも100g/filの引っ張り強度と;(iv) 少なくとも10%の破断伸度と;(v) 約200から約1000ミクロンの内径と;(vi) 約30から約200ミクロンの壁厚とを有する耐溶剤性ポリベンゾイミダゾールを含んでなる微孔質中空支持繊維状薄膜。
IPC (6件):
B01D 71/62 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/08 ,  B01D 69/10 ,  D01F 6/74
FI (6件):
B01D 71/62 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/08 ,  B01D 69/10 ,  D01F 6/74 Z

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