特許

J-GLOBAL ID：200903041656702803

耐放射線光学ガラス及びその製造方法

発明者： 赤塚 剛文 ,  高橋 昭仁
出願人/特許権者： マークテクノロジー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-381274
公開番号（公開出願番号）：特開2007-176778
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：

【課題】 放射線特にX線を照射しても、光量減少が少なく、耐放射線に対しての劣化が少ない長期信頼性の高い光学ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】 酸化珪素を主成分として、フッ素ドープ量を1〜9ppm、OH基濃度800〜1200ppm、遷移金属類、アルカリ土金属類、アルカリ金属をそれぞれ20ppm未満、塩素含有量1ppm未満とすることで、放射線照射に対して安定な光学ガラスの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化珪素を主成分として、フッ素ドープ量を1〜9ppm、OH基濃度800〜1200ppm、遷移金属類、アルカリ土金属類、アルカリ金属をそれぞれ20ppm未満、塩素含有量1ppm未満で、X線を照射線量2.5×104C/kg・h(Rh管球、管電圧50kV、管電流50mA)で3時間照射し、照射前後の光透過率が50mmの厚みにおいて、1%以内である光学ガラス。

IPC (5件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  C03C 4/08 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C03C3/06 ,  C03B20/00 F ,  C03C4/08 ,  G02B1/00 ,  H01L21/30 531Z

Fターム (62件)：

4G014AH15 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC06 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE02 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN40 ,  5F046CB04 ,  5F046CB12 ,  5F046GB02 ,  5F046GB04