特許
J-GLOBAL ID:200903041659487032

プラズマエッチング残留物を除去するための非腐蝕性クリーニング組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-240789
公開番号(公開出願番号):特開平10-097082
出願日: 1997年09月05日
公開日(公表日): 1998年04月14日
要約:
【要約】【課題】 プラズマエッチング残留物を除去するための非腐蝕性クリーニング組成物の提供。【解決手段】 このクリーニング組成物は、水、少なくとも1種の水酸化第4級アンモニウム、および(i)珪酸第4級アンモニウムと(ii)約220〜約5,000の範囲の分子量を有する、カテコール核を含むオリゴマーとからなる群から選択される少なくとも1種の腐蝕防止剤を含む。
請求項(抜粋):
(A) 水、(B) 少なくとも1種の水酸化第4級アンモニウム、および(C)(i)珪酸第4級アンモニウムと(ii)分子量が約220〜約5000である、カテコール核を含むオリゴマーとからなる群から選択される少なくとも1種の腐蝕防止剤を含有することを特徴とする、プラズマエッチングの際に生成する残留物を基板から除去するためのクリーニング組成物。
IPC (2件):
G03F 7/40 521 ,  G03F 7/32
FI (2件):
G03F 7/40 521 ,  G03F 7/32

前のページに戻る