特許
J-GLOBAL ID：200903041666467675
フッ素系樹脂膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-222893
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069190
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置及びマルチチップモジュールの多層配線における絶縁膜の誘電率、密着性、耐熱性の総合的向上を図る。【構成】 感光性樹脂膜のパターニング工程の途中でフッ素ガス雰囲気に曝してフッ素化する。あるいは非感光性樹脂膜であれば、フッ素ガス雰囲気に曝してフッ素化した後、リソグラフィーでパターニングする。
請求項（抜粋）：
基板上に感光性樹脂膜を形成し、該感光性樹脂膜を露光し現像した後に、該感光性樹脂膜をフッ素ガス雰囲気に曝すことを特徴とするフッ素系樹脂膜の形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/312
, C23C 14/16
, H01L 21/027
, H01L 21/90
