特許

J-GLOBAL ID：200903041668901356

洗浄剤組成物

発明者： 園田 明子 ,  一柳 厚史 ,  江川 和子 ,  樹下 基孝
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-097792
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255532
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】 カルボン酸型アニオン性界面活性剤、式(1)〜(3)で示される化合物、及び式(4)で示されるセルロース又は式(5)で示されるカチオン化セルロースを含有し、pHが7.5〜8.5である洗浄剤組成物。〔式中、R7〜R9は式(6)の基であり、水素原子であってもよい。R1〜R6はH,Me,Et,-CCH2)zOH;R10〜R12はH,Me;R13はMe,Et,Pr;Xはハロゲン;pやqやsの平均値は1〜3/グルコース単位;rは0.1〜0.8/グルコース単位;Zは2または3である〕【効果】 洗浄剤組成物は、一回の洗浄操作でメイクアップ汚れと皮脂等の汚れを除去でき、泡性能、洗浄後の感触も良好である。更に潤滑性が非常に良く、かつメイクアップ化粧料とのなじみも良好であり、メイク落ちの早さ、高い洗浄効果を有し、安定性、使用感も良好である。

請求項（抜粋）：

(A)カルボン酸型アニオン性界面活性剤、(B)下記一般式(1),(2)又は(3)で示される化合物、【化1】(C)下記一般式(4)で示されるセルロース又は下記一般式(5)で示されるカチオン化セルロース【化2】(但し、式中R1〜R7はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基を示す。)【化3】を必須成分として含有し、pHが7.5〜8.5であることを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (11件)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/10 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/30 ,  C11D 9/04 ,  C11D 9/26

FI (13件)：

A61K 7/02 A ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/10 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/30 ,  C11D 9/04 ,  C11D 9/26