特許
J-GLOBAL ID：200903041668993838
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
畝本 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-201464
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021581
出願日： 1991年07月15日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 処理室内の搬送手段を支持する垂直ベースの垂直精度を高める。【構成】 被処理体(ウエハ2)を収容して真空処理する真空処理装置であって、前記被処理体を収容して真空状態に保持する処理室(ロードロック室8)と、この処理室に垂直方向に設置されて前記被処理体を搬送する搬送手段(ボートエレベータ22)を支持する垂直ベース(48)と、この垂直ベースと一定の角度を成して取り付けられて前記処理室の床面上に設置され、前記垂直ベースとともに前記搬送手段を前記床面上で支持する水平ベース(46)と、前記処理室における前記水平ベースを通して前記垂直ベースの垂直度を調整する垂直度調整機構(54)とを備えたものである。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容して真空処理する真空処理装置であって、前記被処理体を収容して真空状態に保持する処理室と、この処理室に垂直方向に設置されて前記被処理体を搬送する搬送手段を支持する垂直ベースと、この垂直ベースと一定の角度を成して取り付けられて前記処理室の床面上に設置され、前記垂直ベースとともに前記搬送手段を前記床面上で支持する水平ベースと、前記処理室における前記水平ベースを通して前記垂直ベースの垂直度を調整する垂直度調整機構と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/31
