特許

J-GLOBAL ID：200903041684253461

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  上西 一也 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-244066
公開番号（公開出願番号）：特開平5-061193
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】 高感度で、プリベーキング条件によつてレジスト性能が低下することがなく、しかもハレーシヨン防止効果が高く解像力の高いレジストパターンを形成することのできるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノンジアジド基を含む化合物から成り、更に下記一般式(I)、(II)、(III)もしくは(IV)で表される基を1分子中に少なくとも1個有し、かつ、一般式(V)で表される基を1分子中に少なくとも1個有する吸光剤を全固形分の0.1〜10重量%含む。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノン ジアジド基を含む化合物から成るポジ型組成物において、更に下記一般式(I)、(II)、(III)もしくは(IV)で表される基を1分子中に少なくとも1個有し、かつ、一般式(V)で表される基を1分子中に少なくとも1個有する吸光剤を全固形分の0.1〜10重量%含むことを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、X:-C(=O)-もしくは-S(=O)2-、Y:2価の脂肪族もしくは芳香族炭化水素基、を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027