特許

J-GLOBAL ID：200903041702339891

薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法

発明者： 佐々木 芳高
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-044912
公開番号（公開出願番号）：特開2001-236619
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】 薄膜磁気ヘッド用スライダの低浮上化を可能とし、且つ薄膜磁気ヘッド用スライダの媒体対向面を所望の形状に形成することを可能にする。【解決手段】 本発明のスライダの製造方法は、薄膜磁気ヘッド素子22を含むスライダ用の素材に対してエアベアリング面30を形成する工程と、エアベアリング面30のうち、薄膜磁気ヘッド素子22に対応する部分が、他の部分と同一平面を形成するか、または他の部分よりも記録媒体に近づく位置に配置されるように、エアベアリング面30を部分的にエッチングする工程とを備えている。

請求項（抜粋）：

記録媒体に対向する媒体対向面と、前記媒体対向面の近傍に配置された薄膜磁気ヘッド素子とを有する薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法であって、薄膜磁気ヘッド素子を含むスライダ用の素材に対して媒体対向面を形成する工程と、前記媒体対向面のうち、薄膜磁気ヘッド素子に対応する部分が、他の部分のうちの少なくとも一部と同一平面を形成するか、または他の部分のうちの少なくとも一部よりも記録媒体に近づく位置に配置されるように、前記媒体対向面を部分的にエッチングする工程とを備えたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/60 ,  G11B 5/31 ,  G11B 21/21 101

FI (3件)：

G11B 5/60 C ,  G11B 5/31 M ,  G11B 21/21 101 P

Fターム (9件)：

5D033AA01 ,  5D033BA12 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D042NA02 ,  5D042PA01 ,  5D042QA03 ,  5D042RA02 ,  5D042SA03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 磁気ヘッドの製造方法およびイオンポリシング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-169592   出願人：株式会社日立製作所