特許
J-GLOBAL ID：200903041709214911
薄膜作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-169515
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018042
出願日： 1996年06月28日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】結合エネルギーが大きく、励起・解離が困難な化合物を原料として使用した場合であっても目的とする材料を形成することが可能であって、従来の薄膜作成装置では作成することができなかった組成を有する薄膜の作成を可能とする薄膜作成装置を提供する。【解決手段】化学的気相蒸着(CVD)法であるプラズマCVDと光CVDを同時に行うことを可能とする薄膜作成装置であって、原料供給手段、基板保持手段、光源と前記光源より発生した光を成膜室内に導入する窓、並びにプラズマ発生手段を構成要素として含め、薄膜作成装置を構成する。
請求項（抜粋）：
プラズマCVDと光CVDを同時に行うことにより薄膜が作成可能な薄膜作成装置。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, C23C 16/34
, C23C 16/48
, H01L 21/31
C23C 16/50
, C23C 16/34
, C23C 16/48
, H01L 21/31 C
