特許
J-GLOBAL ID：200903041721679172
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-347336
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183279
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 被処理体を処理する処理温度に伴う、熱膨張或いは熱収縮が生じても、被処理体を保持する載置台の被処理体保持面に対する水平度を維持でき被処理体を均一に処理することができる処理装置を提供することにある。【構成】 被処理体Wを載置台6に保持し、前記被処理体Wを加熱して又は/及びプラズマを生起し、このプラズマ中の活性種によって処理する処理装置であって、少なくとも前記載置台6の被処理体Wを保持する保持面に、ポリベンズアゾール被膜9を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置台に保持し、前記被処理体を加熱して又は/及びプラズマを生起し、このプラズマ中の活性種によって処理する処理装置であって、少なくとも前記載置台の被処理体を保持する保持面に、ポリベンズアゾール被膜を設けたことを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/68
