特許
J-GLOBAL ID：200903041729249711
多相材料の組織解析方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-168011
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021035
出願日： 1991年07月09日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 多相材料の組織解析方法に関する。【構成】 鏡面に研磨した該多相材料表面にイオンビームを一定時間照射し、該多相材料を構成する各相のスパッタ効率が異なることによって生じる該多相材料の凹凸の程度から各相を同定する多相材料の組織解析方法。
請求項（抜粋）：
多相材料の組織解析方法において、鏡面に研磨した該多相材料表面にイオンビームを一定時間照射し、該多相材料を構成する各相のスパッタ効率が異なることによって生じる該多相材料の凹凸の程度から各相を同定することを特徴とする多相材料の組織解析方法。
IPC (2件)：
H01J 37/252
, G01N 23/225
