特許
J-GLOBAL ID:200903041737340990
有機EL表示素子の製造方法および製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-110144
公開番号(公開出願番号):特開2001-297876
出願日: 2000年04月12日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】 高分子材料を用いた有機EL表示素子の製造方法において、有機層の形成位置に開口を持つマスク板を用いた成膜と、凹凸を有する基板上への成膜と、大面積基板への均一成膜を可能にした、安価で生産性の高い製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】 基板上に少なくとも正孔注入電極と、発光層を含む有機層と、電子注入電極を積層し、前記有機層が高分子材料で形成された有機EL表示素子の製造方法において、前記有機層を形成する材料を含む溶液1をノズル3先端から霧状に噴出し、ノズル3と対向する位置に配置した基板6上に有機層9を成膜する、有機EL表示素子の製造方法である。
請求項(抜粋):
基板上に少なくとも正孔注入電極と発光層を含む有機層と電子注入電極を積層し、前記有機層が高分子材料で形成された有機EL表示素子の製造方法において、前記有機層を形成する材料を含む溶液を、ノズルから霧状に噴出し、ノズルと対向する位置に配置した基板に塗布し、有機層を形成することを特徴とした、有機EL表示素子の製造方法。
IPC (8件):
H05B 33/10
, B05B 15/04 102
, B05D 1/02
, B05D 3/02
, B05D 5/06 104
, B05D 7/00
, G09F 9/00 365
, H05B 33/14
FI (8件):
H05B 33/10
, B05B 15/04 102
, B05D 1/02 A
, B05D 3/02 B
, B05D 5/06 104 K
, B05D 7/00 E
, G09F 9/00 365 Z
, H05B 33/14 A
Fターム (32件):
3K007AB04
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4D073AA01
, 4D073BB03
, 4D073CA20
, 4D073CB19
, 4D073DB03
, 4D075AA02
, 4D075AA36
, 4D075AA39
, 4D075AA65
, 4D075AA85
, 4D075AD08
, 4D075BB23Y
, 4D075BB24Y
, 4D075CB08
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435CC09
, 5G435CC12
, 5G435KK05
, 5G435KK10
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