特許
J-GLOBAL ID：200903041738591945
電子線の照射方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232186
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072599
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 電子線を用いた架橋(重合)反応における酸素の阻害反応の発生を低減して、窒素ガスの消費量を減らす。【解決手段】 連続的に供給される被照射物10に電子線32を照射する際に、パルス状の電子ビーム48、76を照射する。
請求項（抜粋）：
被照射物に電子線を照射するための電子線の照射方法において、パルス状の電子ビームを照射することを特徴とする電子線の照射方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G21K 5/04 E
, G21K 1/00 E
