特許

J-GLOBAL ID：200903041738659604

薄膜の製造方法及び製造装置

発明者： 本田 和義 ,  越後 紀康 ,  小田桐 優 ,  砂流 伸樹
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050970
公開番号（公開出願番号）：特開平11-209870
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：

【要約】【課題】 樹脂薄膜の形成において、特に、高堆積速度での均質安定な成膜を図ること【解決手段】 真空中で樹脂材料を蒸発させて支持体に付着させる薄膜の製造方法において、少なくとも前記樹脂材料を加熱体に沿って流動させながら蒸発させることで、蒸発面積を大きくする。

請求項（抜粋）：

真空中で樹脂材料を蒸発させて支持体に付着させる薄膜の製造方法において、少なくとも前記樹脂材料を加熱体に沿って流動させながら蒸発させることを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/12

FI (2件)：

C23C 14/24 D ,  C23C 14/12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭49-045989
  
• 特開昭59-177365