特許

J-GLOBAL ID：200903041747360212

磁気ディスク加工用水溶性加工油剤組成物、該組成物を含む加工液及び該加工液を用いた磁気ディスクの加工方法

発明者： 友田 英幸 ,  大坪 宏誠 ,  宮下 武
出願人/特許権者： 株式会社ネオス ,  富士電機株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093185
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256171
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 Ni系メッキ基板上への表面加工、即ち、平面研磨加工又はテクスチャ加工の加工性、砥粒を分散させた加工液における砥粒分散性、加工時又は加工後における切り屑の下地膜上への非付着性(加工後の洗浄性)、さらに磁性膜を成膜した後の良好なエラー特性を同時に満足させる加工用水溶性油剤組成物、該組成物を含む加工液及び該加工液を用いたNi系メッキ基板の加工方法を提供することを目的とする。【解決手段】 (1)炭素数1〜10のアルコール系溶剤1〜80重量部、(2)非イオン界面活性剤1〜50重量部及び(3)アニオン界面活性剤1〜30重量部を含有してなるNi系メッキ基板加工用水溶性油剤組成物、該組成物を含む加工液及び該加工液を用いたNi系メッキ基板の加工方法を提供する。

請求項（抜粋）：

(1)炭素数1〜10のアルコール系溶剤1〜80重量部、(2)非イオン界面活性剤1〜50重量部及び(3)アニオン界面活性剤1〜30重量部を含有してなるNi系メッキ基板加工用水溶性油剤組成物。

IPC (5件)：

C23F 1/28 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C23F 3/06 ,  G11B 5/84

FI (5件)：

C23F 1/28 ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 Z ,  C23F 3/06 ,  G11B 5/84 A