特許
J-GLOBAL ID：200903041762723631

高電圧パルスを利用した廃水処理装置及び該方法、並びに該処理装置用電源回路

発明者：
浅野 昌道

浅野 昌道 について

, 
青井 辰史

青井 辰史 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について


代理人 (2件)： 高橋 昌久 ,  花田 久丸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-291182
公開番号（公開出願番号）：特開2005-058886
出願日： 2003年08月11日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 有機性物質を短時間でかつ高除去率で以って処理可能であるとともに、装置構成を簡素化でき、処理コストを削減可能な高電圧パルスを利用した廃水処理装置及び該方法、並びに該処理装置用電源回路を提供する。【解決手段】 廃水に高電圧パルス処理を施す処理槽2a、2bが多段直列的に連結して配設されており、前段側処理槽2aでは高電圧パルス放電により主として酸化ラジカルの生成反応が行われ、後段側処理槽2bでは前記酸化ラジカルより生成した過酸化水素、及び該過酸化水素下での高電圧パルス放電により発生した酸化ラジカルを利用した有機性物質の酸化分解が行われ、さらに、前記複数の処理槽に高電圧パルスを供給する一台の高電圧パルス電源5が前記複数の処理槽と夫々独立した給電線ライン16a、16bを介して接続されるとともに、前記夫々の給電線ライン上に電圧変動抑制用インダクタンス17a、17bを介装したことを特徴とする。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
廃水に高電圧パルス処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該廃水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた廃水処理装置において、 複数の前記処理槽が多段直列に連結して配設されており、 前段側処理槽では、高電圧パルス放電により主として酸化ラジカルの生成反応が行われ、後段側処理槽では前記酸化ラジカルより生成した過酸化水素、及び該過酸化水素下での高電圧パルス放電により発生した酸化ラジカルを利用した有機性物質の酸化分解が行われることを特徴とする高電圧パルスを利用した廃水処理装置。
IPC (4件)：
C02F1/46 ,  C02F1/48 ,  C02F1/72 ,  C02F11/06
FI (4件)：
C02F1/46 Z ,  C02F1/48 B ,  C02F1/72 Z ,  C02F11/06 B
Fターム (38件)：
4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AA14 ,  4D050AA16 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050BB09 ,  4D050BB20 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050CA10 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16 ,  4D050CA17 ,  4D059AA01 ,  4D059AA08 ,  4D059BC02 ,  4D059DA16 ,  4D059DA44 ,  4D059DA70 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB18 ,  4D061DC06 ,  4D061DC08 ,  4D061EA15 ,  4D061EB01 ,  4D061EB02 ,  4D061EB07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB30 ,  4D061EB33 ,  4D061EB40 ,  4D061ED06 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061FA15
引用特許：
出願人引用 (4件)
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