特許
J-GLOBAL ID：200903041764977436
セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-312882
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222527
出願日： 1992年10月28日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【構成】円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒し、その上に、後で形成するセラミックス層とホルダーとの中間の熱膨張係数を有する金属または合金の層とその上に前記セラミックス層に近似した熱膨張係数を有する金属または合金の層をアンダーコートとして形成した後、次いで、セラミックス粉末を減圧非酸化雰囲気下でのプラズマ溶射によりアンダーコート上に付着させ、ターゲットとなるセラミックス層を形成する。【効果】セラミックス薄膜を高速で成膜できる。
請求項（抜粋）：
円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒し、その上に、後で形成するセラミックス層の熱膨張係数と前記ターゲットホルダーの熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する金属または合金からなる層と、前記セラミックス層の熱膨張係数に近似した熱膨張係数を有する金属または合金からなる層のうち少なくとも1層をアンダーコートとして形成し、次いで、セラミックス粉末を減圧非酸化雰囲気下の高温ガス中で半溶融状態にしつつこのガスにより前記アンダーコート上に輸送して付着させ、スパッタすべきターゲットとなるセラミックス層を形成することを特徴とするセラミックス回転カソードターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
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