特許
J-GLOBAL ID：200903041785515653
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-163983
公開番号（公開出願番号）：特開平9-016955
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【構成】 基板を同心円状または等方的にテクスチャー処理する工程と、テクスチャー処理された基板上に下地層、磁性層及び保護層を成膜する工程と、成膜工程後のバーニッシュ工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であり、成膜工程とバーニッシュ工程の間に洗浄を行うことを特徴とする。洗浄は純水中への浸漬やスクラブ洗浄によって行われる。【効果】 磁気ディスクのような磁気記録媒体を良好な外観収率で製造でき、また製造された磁気記録媒体のヘッド浮上特性やエラー特性を改善することができる。
請求項（抜粋）：
基板をテクスチャー処理する工程と、テクスチャー処理された基板上に磁性層を成膜する工程と、磁性層成膜後のバーニッシュ工程とを含んでなる磁気記録媒体の製造方法において、磁性層の成膜工程とバーニッシュ工程の間に洗浄を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
FI (2件)：
G11B 5/84 Z
, G11B 5/84 B
