特許

J-GLOBAL ID：200903041793128332

回転式基板塗布装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-183285
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027735
出願日： 1996年07月12日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】 所望膜厚に応じた粘度の塗布液を供給することによって、大口径の基板であってもその全面にわたって均一な所望膜厚の塗布被膜を得ることができる。【解決手段】 基板Wを回転自在に支持するスピンチャック1およびモータ3と、飛散防止カップ5と、それぞれ異なる粘度のフォトレジスト液を各々の先端部から吐出する6本のフォトレジスト液供給ノズル7a〜7fと、これらのノズルの中から1つを選択し、その先端部を基板Wの回転中心付近に移動する移動機構8と、この移動機構8により膜厚に応じた1つのフォトレジスト液供給ノズル7を選択してフォトレジスト液を供給するとともに、モータ3を制御して基板Wに被膜を形成する制御部16とを備える。

請求項（抜粋）：

基板に塗布液を供給することによりその表面に塗布被膜を形成する回転式基板塗布装置であって、基板を回転自在に支持する回転支持手段と、前記回転支持手段の周囲を囲うように配設され、塗布液が周囲に飛散することを防止する飛散防止カップと、それぞれ異なる粘度の塗布液を各々の先端部から吐出する複数本の塗布液供給ノズルと、前記複数本の塗布液供給ノズルの中から1つを選択し、その先端部を前記回転支持手段に支持されている基板の回転中心付近に移動する移動手段と、前記移動手段により膜厚に応じた1つの塗布液供給ノズルを選択して前記基板に塗布液を供給するとともに、前記回転支持手段を制御して前記基板に前記膜厚の塗布被膜を形成する制御手段と、を備えていることを特徴とする回転式基板塗布装置。