特許
J-GLOBAL ID：200903041797845209
ウェット処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-090098
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267275
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 処理液の濃度や組成を一定に保つことができ、かつ各々基板に対し常に同じ状態で処理液を供給することができるようにする。【構成】 基板Sを搬送させる搬送系4と、処理液Lを流出させて基板Sの表面に処理液Lを載せる処理液流出部5と、この処理液流出部5に処理液Lを供給する処理液供給系6とを具備している。処理液流出部5は、例えば基板Sの搬送方向に直角な水平方向に長い処理液流出口50と、この処理液流出口50を塞ぐことが可能な流出口蓋51と、流出口蓋51を基板Sの搬送のタイミングに応じて開閉する不図示の蓋開閉機構と、処理液流出口50の下縁に連設された滑り台53とを有する。
請求項（抜粋）：
処理液を方形の基板の表面に供給して所定の処理を行うウェット処理装置において、基板を搬送させる搬送系と、この搬送系により搬送される基板の表面に処理液を流出させて載せる処理液流出部と、この処理液流出部に処理液を供給する処理液供給系とを具備し、処理液流出部は、内部が中空であって細長い処理液流出口が形成され、さらに、この処理液流出口を塞ぐことが可能な流出口蓋と、流出口蓋を基板の搬送のタイミングに応じて開閉する蓋開閉機構とを有することを特徴とするウェット処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/027
