特許
J-GLOBAL ID：200903041806050621
投影露光方法及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021025
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209030
出願日： 1997年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 感光基板表面の被露光領域の部分的な凹凸等に影響されることなく、常に高精度な露光が行えるようにする。【解決手段】 露光前に、ウエハWを2次元面内で移動させ、複数の計測点(例えば、P4 〜P6 )におけるウエハW表面の光軸(Z軸)方向位置を計測して凹凸を見るとともに、投影光学系の最良結像面Fo を計測する。そして、ウエハWの裏面側を吸着固定するウエハホルダ25の複数の面要素62をそれぞれ光軸方向に所定量だけ駆動することにより、ウエハWの表面を投影光学系の最良結像面Fo と一致させることができるため、常に高精度な露光を行うことができる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に露光する投影露光方法であって、露光に先立って、前記感光基板を2次元面内で移動しつつ、前記感光基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置の変化を光電検出することにより、前記感光基板表面の凹凸を計測する第1工程と;前記投影光学系の結像特性を測定する第2工程と;前記第1工程及び第2工程の結果に基づいて、前記感光基板上の被露光領域が前記投影光学系の最良結像面に一致するように前記感光基板表面の形状を設定する第3工程とを含む投影露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
