特許
J-GLOBAL ID:200903041810918920

液晶表示装置とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): クオンタ・ディスプレイ・ジャパン株式会社
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-021290
公開番号(公開出願番号):特開2005-215277
出願日: 2004年01月29日
公開日(公表日): 2005年08月11日
要約:
【課題】 半透過型液晶表示装置では反射電極の形成工程が発生して製造工程数の増加が避けられず、製造コストが上昇する。【解決手段】 透明導電層(と緩衝層)と反射金属層を積層した後、ハーフトーン露光技術により反射電極形成領域上の膜厚が透過電極形成領域上の膜厚よりも厚い感光性樹脂パターンを形成し、前記感光性樹脂パターンを用いて透過電極と反射電極を合わせた大きさの反射電極を形成した後に前記感光性樹脂パターンの膜厚を減じ、透過電極上の反射金属層(と緩衝層)を除去して透過電極を形成することで透過電極と反射電極の形成を1枚のフォトマスクで処理することを可能ならしめ、写真食刻工程の増加を回避する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
一主面上に少なくとも絶縁ゲート型トランジスタと、前記絶縁ゲート型トランジスタのゲート電極も兼ねる走査線とソース配線も兼ねる信号線と、ドレイン配線に接続された絵素電極とを有する単位絵素が二次元のマトリクスに配列された第1の透明性絶縁基板と、前記第1の透明性絶縁基板と対向する第2の透明性絶縁基板またはカラーフィルタとの間に液晶を充填してなる液晶表示装置において、 第1の透明性絶縁基板の一主面上に絶縁ゲート型トランジスタと走査線と信号線が形成され、 少なくともドレイン電極上に開口部を有し、一部の領域でその表面に凹凸を有する透明絶縁層が前記第1の透明性絶縁基板上に形成され、 前記凹凸領域上では1層以上の反射金属層と透明導電層との積層よりなる反射電極と、その他の領域では前記開口部を含んで前記透明導電層と連続した透明導電性の透過電極が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
IPC (2件):
G02F1/1362 ,  G02F1/1335
FI (2件):
G02F1/1362 ,  G02F1/1335 520
Fターム (19件):
2H091FA02Y ,  2H091FA14Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC27 ,  2H091GA01 ,  2H091GA02 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H092GA11 ,  2H092JA41 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092MA08 ,  2H092MA14 ,  2H092MA16 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  2H092PA08 ,  2H092PA12
引用特許:
出願人引用 (1件)

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