ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273623
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088022
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】反応時および/または蒸留時におけるジエステルの生成を十分に抑制することができる、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。【解決手段】触媒の存在下、(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドの反応によりヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを製造する方法において、(1)(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドの反応、あるいは、(2)ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの蒸留を、25°Cにおける比誘電率が20以上の液体の共存下で行う。

請求項（抜粋）：

触媒の存在下、(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドの反応によりヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを製造する方法において、(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドの反応を、25°Cにおける比誘電率が20以上の液体の共存下で行うことを特徴とする、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法。

IPC (3件)：

C07C 67/26 , C07C 69/54 , C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C 67/26 , C07C 69/54 Z , C07B 61/00 300

Fターム (19件)：

4H006AA02 , 4H006AC48 , 4H006AD11 , 4H006AD40 , 4H006BA14 , 4H006BA19 , 4H006BA28 , 4H006BA29 , 4H006BA37 , 4H006BA51 , 4H006BA52 , 4H006BA85 , 4H006BB21 , 4H006BB22 , 4H006BB31 , 4H006BN10 , 4H006KA19 , 4H039CA66 , 4H039CH70

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭52-023019
特開平4-049265
特開昭58-140043

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