特許
J-GLOBAL ID：200903041828770792
光導波路の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-088344
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294762
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 コア部を有する光導波路のコア部を従来より簡易に形成出来る方法を提供すること。【構成】 Ti-O-の骨格を有し側鎖および末端がt-ブチル基となっているポリチタノキサンと、Si-O-の骨格を有し側鎖および末端がt-ブチル基となっているポリシロキサンと、酸発生物質としてのトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートとを所定量メチルイソブチルケトン(MIBK)に入れて、樹脂組成物の塗布溶液とする。この塗布液を下部クラッド層13上に塗布し樹脂組成物の皮膜15を形成する。この皮膜15に対し電子線を選択的に照射する。次に、この試料をクロロベンゼンで現像し、ついで、シクロヘキサンでリンスする。コア部15aが得られる。
請求項（抜粋）：
コア部を有する構成の光導波路を形成するに当たり、コア部の形成は、側鎖及び末端が酸の作用で切断可能なものであり、しかも、側鎖および末端の全部が主鎖とO-C結合で結合されているかまたは一部が主鎖とO-C結合で結合されかつ残部が水素である、ポリシロキサンと、側鎖及び末端が酸の作用で切断可能なものであり、しかも、側鎖および末端の全部が主鎖とO-C結合で結合されているかまたは一部が主鎖とO-C結合で結合されかつ残部が水素である、ポリチタノキサンまたはポリゲルミノキサンと、エネルギー線を照射することにより酸を発生する酸発生物質とを含む樹脂組成物の皮膜を、下部クラッド層上に形成する工程と、該皮膜に対し、形成したいコア部の形状に応じ選択的にエネルギー線を照射する工程と、該エネルギー線照射済みの皮膜を現像する工程とを含む方法により行なうことを特徴とする光導波路の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
